24.DV-Treffen der MPG, 6.11-8.11. 2007, Jena 

Programmentwurf r2.0 

Abstracts

Keynote

Dr. Frank Stietz (ZEISS SMT)

Abstract

EUV – Der Schlüssel zur nächsten Generation von Halbleiter-Schaltkreisen?

Licht als Werkzeug der Lithographie ist mit 193nm noch immer nicht an seine Grenzen gestoßen und man muss auch zukünftig nicht auf seine unschätzbaren Vorteile verzichten. Die Möglichkeit mit noch kürzeren Wellenlängen zu arbeiten ist in greifbare Nähe gerückt. Technologien basierend auf Licht mit einer Wellenlänge um 13,5nm stellen einen deutlichen Paradigmenwechsel in der Herstellung von integrierten Schaltkreisen dar. Dies bedeutet aber auch, dass die Chancen und Risiken, die mit der Einführung von EUV verbunden sind, eine neue Dimension erreichen.

Der Vortrag gibt einen spannenden Einblick aus der Praxis über die zugrunde liegende Technologie, Chancen und Risiken bei der Nutzung sowie den Status Quo in der Entwicklung und Markteinführung.